樣品表面不平整是導致掃描電鏡（SEM）圖像模糊、局部失焦、對比度不均的重要原因之一。因為電子束聚焦在不同高度的區域時，會出現景深不足或充電累積不均，從而影響成像質量。以下是常見的解決方法：

1. 改善樣品制備

切割/拋光：對于金屬、陶瓷等，可以進行機械拋光、離子束拋光，使表面盡量平整。

離子減薄（Ion Milling）：適用于半導體、陶瓷等硬脆材料，可去除表面粗糙層。

微切片（Ultramicrotomy）：適用于高分子、生物樣品，切割出薄而平整的表面。

2. 選擇合適的鍍膜方式

對粗糙樣品進行 旋轉鍍膜（樣品在鍍膜過程中旋轉），保證表面各角度均勻覆蓋。

使用 碳鍍膜 或 離子濺射鍍金/鉑，減少高低落差區域的電荷積累。

3. 優化成像條件

加大景深：

使用較低的 放大倍率 或 減小光闌孔徑（較小的束斑直徑，景深更大）。

降低加速電壓：

降低到 1–5 kV，可以減少信號來自不同深度的疊加，減輕模糊。

傾斜樣品：

調整樣品臺角度，使關鍵觀察區域盡量處于同一焦平面。

4. 圖像采集策略

逐點聚焦：對不平整樣品，可在關鍵區域單獨聚焦并成像，而不是試圖全局清晰。

拼接/深度復合成像：拍攝多張不同焦平面的圖像，然后通過軟件進行 焦點合成，得到整體清晰的圖像。

5. 低真空或環境 SEM

在低真空模式下，腔體氣體能減少表面電荷積累，幫助在粗糙表面上獲得更穩定的圖像。