掃描電鏡（SEM）能夠?qū)崿F(xiàn)對表面形貌的高分辨率成像，主要是通過以下原理和步驟：

電子束照射： SEM使用高能電子束照射樣品表面。這些電子束通常具有幾千至幾十萬電子伏特的能量。

反射和散射： 當電子束照射到樣品表面時，樣品中的原子會發(fā)生反射、散射和吸收。其中，二次電子（Secondary Electrons，SE）是非常重要的信號，用于生成表面形貌圖像。

二次電子檢測： 掃描電鏡裝置中包含檢測器，用于探測樣品表面反射的二次電子。這些二次電子的產(chǎn)生與樣品表面的拓撲結(jié)構(gòu)直接相關(guān)。

掃描成像： SEM使用電磁透鏡系統(tǒng)和電子束掃描系統(tǒng)，能夠在樣品表面上進行高分辨率的掃描。通過在樣品表面上掃描電子束并測量二次電子的信號，可以構(gòu)建出高分辨率的表面形貌圖像。

信號處理和圖像重建： 通過對從樣品表面反射的二次電子信號進行處理，可以生成圖像。信號處理包括增強對比度、去除噪音等步驟。電子束的掃描軌跡和二次電子信號的采集與樣品的拓撲結(jié)構(gòu)直接相關(guān)，因此獲得的圖像具有高分辨率和表面拓撲信息。

低真空模式： 有時候，在低真空模式下工作可以增強對非導(dǎo)電樣品的成像效果。在低真空條件下，電子束與氣體分子相互作用，有助于減小充電效應(yīng)，提高對絕緣體的成像效果。

ZEM20臺式掃描電鏡

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